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工业纯水设备

LED光学超纯水设备

文字:[大][中][小] 2017-5-18    浏览次数:512    

  中霖中科生产各种(0.25T/H-100T/H)水处理设备,除氟除砷设备,反渗透纯水设备,超滤设备,软化水设备,离子交换设备,电除盐设备,杀菌设备及各种灌装设备,可根据用户实际情况进行设计,保证同等产品、同等配置、价位最低,设备运行可靠,确保产品水符合国家用水标准。




  LED光学超纯水设备

  在设备设计上,采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺,确保处理后的超纯水水质出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品,采用PLC+触摸屏控制,全套系统自动化程度高,系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本,水利用率高,运行可靠,经济合理。使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。

  我们公司专业生产RO+EDI+精混床超纯水设备,有多年的生产经验,尤其在电控系统PLC方面在水处理行业技术都是比较成熟,我们也有做过很多各行业的水处理设备,这方面我们有丰富的经验。我们公司做出来的设备质量比他们都有优势,在国内具有一定的市场竟争力。该产品由于具备性能好、价格低于国外同类产品价格、供货及时、售后服务方便快捷等诸多优势。

  在LED生产中,其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质,是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成,其配制需用超纯水,如纯水中含铜在8ppb以上,就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃;含有机物胶体、微粒、细菌等,就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力,并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中,玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水,每生产一个显像管需用纯水80kg。液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液,如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质,就会使液晶显示电路发生故障,影响液晶屏质量,导致废、次品。显像管、液晶显示器生产对纯水水质有极高的要求。

  生产LED水质标准:我公司LED用超纯水出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。



  LED光学超纯水设备参数


操作压力
水电阻率
出水量
电压
水质
功率
电导率
脱盐率
单机动力

8-15

kg(Mpa)

18

MΩ.cm

5

t/h

380

(V)

400

us以下

3KW

以下(w)

10

us以下

99

(%)

0.5

(/h)




  LED光学超纯水设备用超纯水设备对水质的要求:

  新兴的光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

  LED光学超纯水设备使用范围:

  ☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

  ☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

  ☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

  ☆黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

  ☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

  ☆晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制

  ☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片

  ☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

  ☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

  ☆高品质显像管、萤光粉生产

  ☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

  ☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料

  ☆实验室和中试车间

  ☆汽车、家电表面抛光处理

  ☆光电产品、其他高科技精微产品



  典型LED光学超纯水设备用超纯水制备工艺:

  1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

  2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ.CM)(最新工艺)

  3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥17MΩ.CM)(最新工艺)

  4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(最新工艺)

  5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象(≥15MΩ.CM)(传统工艺)



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