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工业纯水设备

光电行业用超纯水设备

文字:[大][中][小] 2017-5-18    浏览次数:340    

  中霖中科生产各种(0.25T/H-100T/H)水处理设备,除氟除砷设备,反渗透纯水设备,超滤设备,软化水设备,离子交换设备,电除盐设备,杀菌设备及各种灌装设备,可根据用户实际情况进行设计,保证同等产品、同等配置、价位最低,设备运行可靠,确保产品水符合国家用水标准。




  光电行业用超纯水设备

  新兴的光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。



   光电行业用超纯水设备参数


操作压力
水电阻率
出水量
水质
外形尺寸    
电压
功率
电导率
脱盐率
单机出力

小于1.6

(Mpa)

18 3吨/小时
200

1000*3000

(cm)

380

(V)

5.5

(w)

10 99.7(%)

3

(/h)

  



  应用场合:

  ☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;

  ☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏;

  ☆高品质显像管、萤光粉生产;

  ☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗;

  ☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料;

  ☆实验室和中试车间;

  ☆汽车、家电表面抛光处理;

  ☆光电产品;

  ☆其他高科技精微产品;

  光电行业水质标准:

  我公司电子级超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。





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