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工业纯水设备

半导体行业产品清洗用超纯水设备

文字:[大][中][小] 2017-5-18    浏览次数:486    

  中霖中科生产各种(0.25T/H-100T/H)水处理设备,除氟除砷设备,反渗透纯水设备,超滤设备,软化水设备,离子交换设备,电除盐设备,杀菌设备及各种灌装设备,可根据用户实际情况进行设计,保证同等产品、同等配置、价位最低,设备运行可靠,确保产品水符合国家用水标准。




  半导体行业产品清洗用超纯水设备

  在设备设计上,采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺,确保处理后的超纯水出水水质电阻率达到18.2 MΩ.cm。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品,采用PLC+触摸屏控制,全套系统自动化程度高,系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本,水利用率高,运行可靠,经济合理。使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。我们公司专业生产RO+EDI+精混床超纯水设备,有多年的生产经验,尤其在电控系统PLC方面在水处理行业技术都是比较成熟,我们也有做过很多各行业的水处理设备,这方面我们有丰富的经验。



   半导体行业产品清洗用超纯水设备参数


操作压力
水电阻率
出水量
外形尺寸
电压
水质
功率
电导率
脱盐率

1.0Mpa

(Mpa)

18

MΩ·cm

500L/H

160*100*16

0(cm)

380

(V)

0.55

380

(w)

0.06

99.999

(%) 




  半导体行业用超纯水水质标准:

  我公司半导体行业用超纯水出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

  半导体行业用超纯水设备对水质的要求:

  新兴的光电材料生产、加工、清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

  半导体行业超纯水设备应用场合:

  ☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

  ☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

  ☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

  ☆黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

  ☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

  ☆晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制

  ☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片

  ☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

  ☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

  ☆高品质显像管、萤光粉生产

  ☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

  ☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料

  ☆实验室和中试车间

  ☆汽车、家电表面抛光处理

  ☆光电产品、其他高科技精微产品

  半导体行业用超纯水制备工艺流程图:







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